美慌得一米，国产直线模组刻蚀机达到先进水平。前段时间有个大热的梗，我是梅西，我现在慌得一逼；由这个梗网友衍生出很多搞笑段子，我是梅业绩，我现在慌得一米；我是梅饭吃，我现在慌得一米。当下这位慌得一米的是近期跟我国打贸易战的美，因为国产直线模组刻蚀机达到先进水平，美被迫放弃对中国禁运刻蚀机。

刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。随着微制造工艺的发展，广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。

刻蚀机的工作原理可以分为干刻、湿刻两大类。其中湿刻是将硅片浸泡在可以与被刻蚀膜层反应的化学液体中，除去不需要的部分，是早期工艺采用较多的方法。不过，湿刻不可避免的会在刻蚀的侧壁形成横向钻蚀，无法很好的控制线宽，所以，在工艺达到微米级以后，生产中更多的是采用没有液体参与的干刻技术，如直直线模组激光刻蚀机。

直线模组激光刻蚀适用与晶硅效率高太阳能电池片边缘绝缘线的刻蚀，设备一般采用效率高的激光器、大理石加工机座、自动上下料机构、直线模组工作平台、CCD视觉定位，实现离线全自动封闭式的效率高的太阳能电池片的边缘绝缘刻蚀加工。

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